Sujets de thèses 2025 / ED182

Les étudiants titulaires d’un Master, qui souhaitent postuler à un contrat doctoral, sont invités à transmettre leur dossier au directeur de thèse dont les coordonnées figurent dans le descriptif du sujet.

Retrouvez tous les sujets proposés sur la page dédiée du site de l’ED 182: https://edpcp.u-strasbg.fr/?page_id=7819

Information concernant le calendrier et dépôt de candidature disponibles sur  : https://edpcp.u-strasbg.fr/?p=319

Projet UpQuantVal

Ce nouveau projet transfrontalier UpQuantVal, lancé le 3 mars 2025, réunit, dans la région du Rhin supérieur, des acteurs académiques, de la recherche et du secteur privé pour créer un écosystème quantique tri-national intégré et durable.

Lire l’article paru sur le site Savoir(S) de l’université de Strasbourg

Extrait du Communiqué de presse :  “Ce projet, soutenu par l’Union européenne dans le cadre du Interreg Rhin supérieur via le Fonds européen de développement régional (FEDER), vise à promouvoir la collaboration dans les domaines des sciences et technologies quantiques, de la recherche, de la formation et de l’innovation au sein de la région transfrontalière. Il bénéficie d’une enveloppe de 5,1 millions d’euros, dont 2,3 millions d’euros de fonds européens et des co-financements des institutions partenaires.

UpQuantVal (Vallée Quantique du Rhin Supérieur) est porté par le Centre Européen de Sciences Quantiques de l’Université de Strasbourg et du CNRS et réunit 19 partenaires. L’objectif est de développer un écosystème intégré qui favorise une coopération transfrontalière plus efficace, la mise en réseau des connaissances, ainsi que l’innovation continue dans les domaines de l’informatique et de la détection quantique et des technologies habilitantes. Grâce à des infrastructures dédiées, des stratégies de formation et des actions de transfert de technologie, UpQuantVal vise à positionner la région du Rhin supérieur en tant que pôle d’innovation quantique compétitif et attractif au cœur de l’Europe.

Au-delà de l’impact scientifique et technologique, le projet prévoit de générer de nouveaux emplois et de stimuler la croissance des compétences dans la région, tout en consolidant un réseau durable entre les chercheurs, entreprises et institutions publiques. Les activités prévues incluent des formations transfrontalières, des échanges d’expertise, ainsi que des stratégies de communication et de coopération à long terme pour garantir la pérennité de cette initiative.”

 

 

“Behind the IPCMS doors”

Le pôle Communication/Documentation de l’IPCMS diversifie son activité pour le rayonnement
de l’institut par le lancement d’un nouveau projet participatif !
L’objectif de ces épisodes dans un format court de quelques minutes, est de valoriser les travaux, les recherches et les personnes qui contribuent à faire vivre notre laboratoire.

Le premier épisode dédiée à la plateforme STnano, partie 1 : 2DLab, est disponible sur notre chaîne Youtube

New ALD System in glovebox now operational at STnano facility

System Highlights:

  • Glovebox-integrated ALD for controlled atmosphere deposition (less than 1ppm O2 & H2O)
  • New capabilities for Al2O3 and HfO2 thin film deposition
  • Enables precise layering and composite structure creation

Research Opportunities:

  • Creation of ultrathin Al2O3 and HfO2 films and their composites
  • Studies on Al2O3/HfO2
  • Investigation of electrical properties of high-k dielectric materials

Potential Applications:

High-density capacitor fabrication for advanced electronics

Exploration of ferroelectric properties in doped HfO2 films

Development of novel gate dielectrics for semiconductor and/or 2D devices

Next Steps:

  1. Introductory workshops will be held to familiarize researchers with the system’s capabilities and the new materials.
  2. The facility is now accepting research proposals that leverage these new deposition capabilities.
  3. We encourage collaborative projects to explore the full potential of Al2O3 and HfO2 in various applications.

This new ALD system represents a significant advancement in STnano research infrastructure, positioning us at the forefront of materials science and nanotechnology research. For more information, training sessions, or to discuss potential research projects, please contact STnano facility manager

This work has benefited from the government grant Program PEPR-Spin, project SPINMAT, operated by the French National Research Agency as part of the France 2030 program, reference « ANR-22-EXSP-0007»

Nouveaux équipements de la plateforme PLD

La chambre de pulvérisation cathodique, directement reliée à une des deux enceinte de PLD, permet la réalisation de dépôts successifs sans remise à l’air intermédiaire. La pulvérisation, assemblée par l’équipe de la plateforme, a été réalisée sur mesure pour s’intégrer parfaitement sur le bâti de PLD. Elle est équipée d’un magnétron DC de 2″ permettant entre autres le dépôt des matériaux métalliques (platine, cuivre, etc, …) qui combiné aux oxydes fonctionnels élaborées par l’équipe « oxydes en couches minces » peuvent permettre des études dans le domaine de la spintronique.

Porte échantillon porté à une température de 800°C

La plateforme a également amélioré le chauffage des échantillons de l’ablation laser. En plus de l’ancien système de chauffage résistif, un nouveau système de chauffage laser a été installé. Ce nouveau chauffage consiste à chauffer l’arrière du porte échantillon à l’aide d’un laser (classe 4) ayant une longueur d’onde de 980 nm. La température est également mesurée à l’arrière à l’aide d’un pyromètre. Ce nouveau dispositif permet d’atteindre des températures plus élevées (au moins 1100°C comparé à 900°C pour le chauffage résistif). Les montées et descentes en température peuvent être plus rapides et des recuits sous atmosphère d’oxygène peuvent être effectués car les problèmes d’inertie thermique et d’oxydation des contacts du chauffage résistif sont supprimés.

Si vous souhaitez de plus amples informations sur ces deux équipements, financés conjointement par le PEPR SPIN, le CNRS, l’IPCMS et l’équipe « Oxydes en couches minces », vous pouvez contacter l’un des membres de la plateforme.

Dépôt de platine dans la pulvérisation cathodique située entre la chambre de PLD et le sas d’introduction.