Le bâti de gravure par faisceau d’ions fait partie des moyens d’élaboration des nanostructures magnétiques de l’IPCMS GEMME (voir aussi la salle blanche et l’e-fab).
Equipé d’une source plasma micro-ondes de 300 W, 2.45 Ghz, cette source de 50 mm de diamètre est alimenté en Ar et O2 via un régulateur de débit type mass flow. L’énergie des ions est de 200 à 500 eV. La vitesse de gravure est de l’ordre de 10 nm/min pour les métaux et résines, plus lente pour les diélectriques. Le faisceau d’ions peut être neutralisé par une source d’électrons à filament W. L’échantillon de 2″ maximum, fixé sur un molyblock est transféré du sas de chargement vers un réceptacle placé au bout du manipulateur 5 axes. L’angle de gravure est réglable de 0 à 90°, la rotation permanente de l’échantillon autour de son axe garantit l’homogénéité de la gravure. La pression dans le bâti est contrôlé par une jauge « Pirani +Penning ». Le vide de base est de 5 x 10-9 Torr.
La détection de fin de gravure se fait actuellement par la calibration des taux de gravure sur des échantillons témoins. Afin de fiabiliser cette étape technologique, nous souhaitons acquérir un spectromètre Auger de type CMA.
Thèmes de recherche :
- Spintronique hybride
- Electroresistance
- Jonctions magnéto-résistives à l’échelle de l’atome
- Décalage Doppler des ondes de spin
- Transport polarisé en spin au travers de nouveaux oxydes multifonctionnels
- Organisation et adressage de molécules-aimants
- Nanostructuration de couches d’alliages anisotropes
- Influence de la nanotopographie sur l’organisation de cellules biologiques et de protéines (ISCI)
- Nouvelles nanostructures pour l’électrocatalyse (ECPM)
La gravure ionique est accessible à condition d’une formation initiale et une réservation. Le mode d’emploi est disponible sur le web interne.
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