Pulvérisation cathodique

L’élaboration de matériaux multicouches par pulvérisation cathodique couvre un vaste domaine d’applications, matériaux pour des dispositifs de stockage d’information magnéto-optiques, compact disque. Cette technique permet également de mettre en œuvre des dispositifs complexes combinant des éléments mémoires (jonction magnétique à effet tunnel simple) avec des éléments « diode » (double jonction tunnel). Des études sur la croissance de toutes sortes de couches peuvent également être menées au moyen de la technique de dépôt par pulvérisation cathodique.

Vue générale : Pulvérisation cathodique

  • à gauche, la baie de mesure avec les alimentations en bas, l’ordinateur de pilotage au centre, les jauges et mesure de température en haut,
  • à droite, la chambre à vide avec la mécanique et l’électronique de rotation et de mise en température en haut, les alimentations des magnétrons en dessous, les hublots sur les côtés et la prise de gaz pour le quadrupole à droite.

Porte-échantillons:

Selon la taille de la cheminée utilisée, on peut préparer en même temps (les dépôts sont successifs, mais les substrats sont mis sous vide ensemble -une nuit de pompage est nécessaire pour atteindre un vide de 2 10-9torr) :

  • entre 2 et 3 échantillons sur le porte-échantillons chauffant
  • entre 7 et 9 échantillons sur le porte-échantillons refroidi

Vue de dessous des porte-échantillons

Cibles (schéma 3D) :

  • deux cibles sur magnétron à plat (C2 et C3)
  • deux paires de cibles sur magnétron en face à face (C1 et C4 – permet de déposer des alliages de même concentration que les cibles)
  • deux cibles sur magnétrons convergents (permet de fairedes co-dépôts d’alliages de concentration variable)

Cibles (schéma 3D)

Cible:

  • deux cibles sur magnétron à plat (C2 et C3 en bas)
  • deux paires de cibles sur magnétrons en face à face (C1 et C4 – permet de déposer des alliages de même concentration que les cibles – sur les côtés)
  • deux cibles sur magnétrons convergents (permet de faire des co-dépôts d’alliages de concentration variable – en haut)

Cible

Plan en coupe:

  • le porte-substrats,
  • la mécanique de rotation,
  • le refoidissement par balayage d’azote liquide,
  • le chauffage…

Plan en coupe de la partie haute de l’installation

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